Product Name | triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium |
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CAS | 0-0-YH84018 |
ProductNum | YH84018 |
Formula | C22H25NF10S3O4 |
MW | 643 |
Product Name | triphenylsulfanium,4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium |
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CAS | 0-0-YH84018 |
ProductNum | YH84018 |
Formula | C22H25NF10S3O4 |
MW | 643 |
電子級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽是一種高純度的有機硫化合物,具有出色的熱穩定性和化學穩定性。該化合物由三苯基硫陽離子和全氟丁烷磺酸根陰離子組成,是一種強酸性光酸生成劑(PAG),主要應用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中。由于其優異的光化學反應性和低金屬雜質含量,該產品特別適合用于高精度光刻膠和抗蝕劑的配方,能夠顯著提高圖形分辨率和顯影性能。
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【物理性質】
1.基本性質
分子式:C22H25NF10S3O4
分子量:643 g/mol
外觀:白色或淺黃色結晶粉末
純度:≥99.5%
2.溶解性
易溶于極性有機溶劑,如乙腈、丙酮和二氯甲烷。
在水中溶解度較低,但在混合溶劑體系中表現出良好的溶解性。
3.熱穩定性
熱分解溫度高(>250°C),適用于高溫條件下的光刻工藝。
需存儲在干燥、陰涼環境,避免長時間暴露于空氣和濕氣中。
【應用領域】
1.光酸生成劑(PAG)
作為先進光刻膠的光酸生成劑,在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻中表現優異,能夠在曝光后釋放強酸,從而提升顯影效率和圖形保真度。適用于高分辨率和高靈敏度的光刻膠配方,有助于實現精細圖形結構。
2.抗蝕劑和光刻膠
用于高性能抗蝕劑和光刻膠的配方中,提升材料的光敏性能和耐化學蝕刻性能。在微電子加工中,提供卓越的顯影性能和邊緣分辨率,適用于先進的芯片制造。
3.電子材料添加劑
作為電子材料中的功能性添加劑,提升薄膜的機械強度和耐熱性能。廣泛應用于半導體器件、顯示器和光電子器件的制造中,提高產品性能和穩定性。
電子級三苯基硫全氟丁烷磺酸鹽憑借其高純度和出色的光化學性能,成為現代光刻和電子材料領域的重要化學品,支持高精度和高可靠性的加工工藝。