電子級(jí)(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽是一種高純度锍鹽化合物，結(jié)合了三芳基锍陽離子的優(yōu)異光敏性和特殊苯磺酸鹽的強(qiáng)酸穩(wěn)定性。該產(chǎn)品具有出色的光敏性能和化學(xué)穩(wěn)定性，廣泛用于高端半導(dǎo)體和微電子制造中的光刻膠及相關(guān)領(lǐng)域。

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[基本信息]

中文名稱：(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-三(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)

英文名稱：(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)

分子式：C₃₇H₄₆O₃S₂

分子量：602.29 g/mol

外觀：淺黃色至白色粉末或晶體。

純度：≥99.9%，符合電子級(jí)標(biāo)準(zhǔn)。

溶解性：
（1）溶于極性有機(jī)溶劑，如乙腈、二氯甲烷。
（2）對(duì)水不溶，表現(xiàn)出較高的疏水性。

熱穩(wěn)定性：在高溫條件下（最高250-300°C）仍能保持化學(xué)穩(wěn)定性。

光敏特性：在紫外光激發(fā)下表現(xiàn)出優(yōu)異的反應(yīng)性能。

[應(yīng)用領(lǐng)域]

光刻膠配方

（1）用于深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術(shù)，提高分辨率和顯影對(duì)比度。

（2）提升光刻膠的曝光靈敏度，滿足納米級(jí)微圖形制造需求。

微電子與半導(dǎo)體制造

（1）應(yīng)用于干法蝕刻技術(shù)，支持高精度微納加工。

（2）作為化學(xué)放大光刻膠的重要光敏劑，提高光刻工藝效率。

高性能材料研發(fā)

（1）用于制備具有耐高溫和抗化學(xué)腐蝕的功能薄膜。

（2）支持高端顯示設(shè)備、新能源器件及微電子封裝的精密制造。

優(yōu)勢(shì)

本產(chǎn)品憑借其優(yōu)異的光敏性能、高純度及熱化學(xué)穩(wěn)定性，為半導(dǎo)體制造工藝提供關(guān)鍵支持，適用于苛刻環(huán)境下的高精度制造需求。