電子級三苯基磺鎓雙(三氟甲基磺酰)酰胺（Triphenylsulfonium Bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide）是一種性能優異的光引發劑和高純度電子化學品，常用于光刻膠、光聚合和其他光敏材料中。其高純度、低雜質的特性使其在微電子制造和高性能光敏材料領域具有重要價值。

如果需要了解更多產品信息請通過微信或QQ與我們取得聯系，我們的團隊將為您提供一對一的咨詢服務。

QQ：3956182849

微信：

【物理性質】

基本信息

（1）化學式：C₂₀H₁₅F₆NO₄S₃

（2）分子量：543.51 g/mol

外觀與純度

（1）外觀：白色或淺黃色粉末或晶體。

（2）純度：≥99.0%（電子級）。

物理參數

（1）熔點：160~180°C（具體值隨產品批次不同略有差異）。

（2）溶解性：可溶于極性有機溶劑，如丙酮、甲醇等，微溶于水。

（3）穩定性：在密封、干燥條件下具有良好的化學穩定性。

儲存條件

（1）建議在密閉干燥容器中儲存，避光、避免潮濕環境。

（2）儲存溫度應低于25°C，并遠離強氧化劑和高溫環境。

【應用領域】

光刻膠及微電子加工

（1）作為高效光引發劑用于光刻膠中，適用于深紫外光（DUV）和極紫外光（EUV）技術。

（2）提升微細圖形的解析度和加工精度，是微電子行業的重要化學品。

光聚合領域

（1）廣泛用于光敏涂料、粘合劑及光固化樹脂中，確?？焖倬酆虾蛢灝惖某赡ば阅堋?/span>

（2）適合高性能涂層和復合材料的制備，提升產品的機械性能和耐化學性。

功能性材料開發

（1）在功能性聚合物合成中，作為光敏組分，提供可控反應動力學和光學性能。

（2）適合高端顯示器、半導體封裝及其他尖端應用場景。

【總結】

電子級三苯基磺鎓雙(三氟甲基磺酰)酰胺以其高純度、優異的光引發效率和良好的化學穩定性，廣泛應用于光刻膠和光聚合領域，是電子化學品市場中的重要原材料。