英文名稱 | 6-butyl-1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-yl trifluoromethanesulfonate |
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中文名稱 | 電子級 6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸 |
CAS號 | 1610827-31-0 |
產品編號 | YH68321 |
分子式 | C17H14F3NO5S |
分子量 | 401.36 |
英文名稱 | 6-butyl-1,3-dioxo-1H-benzo[de]isoquinolin-2(3H)-yl trifluoromethanesulfonate |
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中文名稱 | 電子級 6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸 |
CAS號 | 1610827-31-0 |
產品編號 | YH68321 |
分子式 | C17H14F3NO5S |
分子量 | 401.36 |
電子級6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸(是一種高純度、高性能的電子化學品,具有優異的化學穩定性、熱穩定性和良好的電氣性能。該產品廣泛應用于半導體、光電、薄膜材料以及高精度電子制造領域。特別適用于光刻膠配方、表面處理和電子器件的保護涂層,能夠顯著提高微電子工藝的可靠性和精度。
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【物理性質】
基本信息
(1)分子式:C17H14F3NO5S
(2)分子量:401.36 g/mol
外觀與純度
(1)外觀:白色至淡黃色結晶或粉末。
(2)純度:≥99.5%(電子級)。
溶解性與穩定性
(1)溶解性:易溶于有機溶劑如醇、醚、氯仿等,微溶于水。
(2)穩定性:在常規儲存條件下具有較高的化學穩定性和熱穩定性,適合長期存儲和使用。
熱穩定性
(1)熔點:約80°C。
(2)沸點:約300°C(在常壓下)。
(3)熱分解溫度:約250°C。
電氣性能
(1)電導率:低電導率,適合高精度電子制造應用。
(2)絕緣性能:具有較強的電絕緣性能,在微電子設備中可有效防止電流泄漏。
【應用領域】
光刻膠和薄膜材料
(1)作為光刻膠的關鍵添加劑,能夠提高光刻膠的分辨率和穩定性,廣泛應用于半導體制造中的微細結構刻蝕過程。
(2)在薄膜材料中用作光敏材料,提升薄膜的圖像清晰度和表面附著力。
半導體封裝和表面處理
(1)作為封裝材料的增強劑,增強半導體封裝材料的耐熱性、耐腐蝕性和電氣性能。
(2)在電子元器件表面處理過程中,可以提供優異的保護膜,減少外界環境對器件的損害。
電子元器件保護涂層
(1)用于高精度電子元器件的表面涂層,具有良好的附著力和耐磨性。
(2)能夠有效防止靜電放電(ESD)和化學腐蝕,提高電子元器件的穩定性和使用壽命。
光電器件與顯示技術
(1)應用于光電器件的涂層材料,改善器件的光電轉換效率和長期穩定性。
(2)在顯示器領域中,有助于提高顯示質量和光學性能,特別是在OLED顯示和觸摸屏領域。
【總結】
電子級6-丁基-N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸以其優異的化學穩定性、熱穩定性和電氣性能,在微電子、半導體、光電及顯示技術中發揮著重要作用。其應用可以顯著提升光刻膠、封裝材料及電子元器件的性能,滿足高精度電子制造工藝的需求,是現代電子工業不可或缺的關鍵材料之一。