英文名稱 | triphenylsulfanium,iodide |
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中文名稱 | 電子級 三苯基碘化硫鎓鹽 |
CAS號 | 3744-08-9 |
產品編號 | YH84020 |
分子式 | C18H15IS |
分子量 | 389.99 |
英文名稱 | triphenylsulfanium,iodide |
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中文名稱 | 電子級 三苯基碘化硫鎓鹽 |
CAS號 | 3744-08-9 |
產品編號 | YH84020 |
分子式 | C18H15IS |
分子量 | 389.99 |
電子級三苯基碘化硫鎓鹽是一種高純度的有機硫化合物,廣泛應用于半導體和光電子領域。該化合物由三苯基硫鎓陽離子和碘化物陰離子組成,具有優異的光敏性能和熱穩定性,常用作光酸生成劑(PAG)或光敏化合物的原料。三苯基碘化硫鎓鹽能在光照或熱處理下生成強酸,是光刻膠和抗蝕劑配方中提升顯影效果和分辨率的重要成分。其電子級純度和低金屬雜質含量確保了在高精密制造中的穩定性和可靠性。
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【物理性質】
1.基本性質
分子式:C18H15IS
分子量:389.99 g/mol
外觀:白色或淺黃色結晶粉末
純度:≥99.5%
2 .溶解性
易溶于極性有機溶劑,如乙腈、丙酮、二甲基亞砜(DMSO)。
在水中溶解度較低,但在某些混合溶劑中表現出良好的溶解性能。
3.熱穩定性
熱分解溫度較高(>200°C),適用于高溫光刻和加工工藝。
需存儲在干燥、避光環境下,避免吸濕和長時間暴露于空氣中。
【應用領域】
1.光酸生成劑(PAG)
作為光刻膠中的光酸生成劑,在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中,能夠在曝光后釋放出強酸,從而提高顯影反應的靈敏度和分辨率。適用于先進光刻技術,可改善圖形邊緣清晰度和精度。
2.光敏化合物的原料
用于合成光敏材料和感光聚合物,可作為光固化涂料、膠黏劑和光電器件中的關鍵成分。其強酸生成特性使其在光固化過程中表現出優異的催化效果。
3.抗蝕劑和電子材料
在抗蝕劑配方中用于提升材料的感光性和化學穩定性,廣泛應用于半導體制造、顯示器生產和精密電子器件加工。作為電子材料的添加劑,能夠提高薄膜材料的耐熱性和機械強度,增強電子器件的性能和可靠性。
電子級三苯基碘化硫鎓鹽憑借其高純度、優異的光化學性能和穩定性,是現代光電子材料和先進半導體制造中的重要化學品。