電子級全氟丁基磺酸三苯基锍鹽是一種高性能光酸生成劑，專為高分辨率光刻工藝設計。其優異的化學穩定性和光酸生成效率使其成為先進制程中關鍵材料之一，特別適用于深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻技術。該產品滿足苛刻的電子級純度需求，廣泛應用于半導體制造和微電子加工領域，助力實現精密圖形轉移和高集成度器件的生產。

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【物理性質】

基本性質

（1）化學名稱：全氟丁基磺酸三苯基锍鹽。

（2）分子式：C₂₂H₁₅F₉O₃S₂

（3）分子量：562.46 g/mol。

外觀與溶解性

（1）外觀：白色至淺黃色粉末。

（2）溶解性：易溶于常見有機溶劑，如甲醇、丙酮和乙腈。

熱穩定性與純度

（1）熱分解溫度：＞180℃，滿足光刻過程中熱處理要求。

（2）純度：≥99.9%，符合電子級標準，雜質含量極低。

【應用領域】

光刻技術

（1）用作DUV和EUV光刻膠中的光酸生成劑，提升感光靈敏度。

（2）確保光刻膠的圖形分辨率和精準度，適應先進制程工藝。

半導體制造

（1）適用于晶圓加工中的蝕刻和圖形轉移工藝，滿足7nm及以下節點的技術需求。

（2）提高半導體器件的性能和穩定性，支持高密度電路設計。

其他電子領域

（1）在顯示面板制造中，用于提升微細圖形生成效果。

（2）適合光電子器件和集成光學系統的精密加工，優化性能表現。