| 英文名稱 | Sulfonium, triphenyl-, 1-[(3-hydroxytricyclo[3.3.1.13,7]dec-1-yl)methyl] 1,1,2,2-tetrafluoro-1,4-butanedisulfonate (1:1) |
|---|---|
| 中文名稱 | 電子級 三苯基锍,1-[(3-羥基三環[3.3.1.13,7]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽 (1:1) |
| CAS號 | 1428237-74-4 |
| 產品編號 | YH68173 |
| 分子式 | C39H36F4O7S3 |
| 分子量 | 716.83 |
電子級三苯基锍,1-[(3-羥基三環[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽是一種高性能光酸生成劑，專為先進光刻工藝設計。其獨特的分子結構結合了三苯基锍和多官能團基團，具備優異的光敏性、化學穩定性以及在苛刻條件下的高效性能。該產品廣泛應用于半導體制造、光刻膠開發以及其他高精度光電子工藝中，支持新一代芯片與微納器件的制造需求。
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【物理性質】
基本性質
（1）化學名稱：三苯基锍,1-[(3-羥基三環[3.3.1.13,?]癸-1-基)甲基]1,1,2,2-四氟-1,4-丁二磺酸鹽
（2）分子式：C39H36F4O7S3
（3）分子量：716.83 g/mol
外觀與溶解性
（1）外觀：白色或淺黃色粉末。
（2）溶解性：溶于極性有機溶劑，如二甲基亞砜（DMSO）、乙腈和甲醇。
熱穩定性與純度
（1）熱穩定性：熱分解溫度＞200℃，適應多種工藝條件。
（2）純度：≥99.9%，符合電子級材料的嚴格質量要求。
【應用領域】
光刻膠材料
（1）用作DUV和EUV光刻膠中的光酸生成劑，提高光刻分辨率和圖形保真度。
（2）優化高端制程工藝，支持先進芯片制造需求。
半導體制造
（1）應用于晶圓加工中的光敏反應，助力實現高精度圖案轉移。
（2）支持5nm及以下節點技術工藝。
光電子與顯示技術
（1）在顯示面板制造中，用于提升圖形處理的精度與分辨率。
（2）適用于光電子器件制造，提高器件的可靠性和性能表現。
