電子級(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯是一種高純度的有機化學品，廣泛應用于電子制造行業，特別是在半導體光刻膠和微電子領域中。其分子結構中的三氟甲磺酸基團具有強酸性，使得該化合物在光刻膠中能夠作為高效的光酸生成劑，促進光刻反應的進行。這種化合物不僅具備優異的化學穩定性，還能在嚴格的電子級要求下，確保光刻膠的分辨率、敏感度和穩定性，滿足現代半導體制造的需求。

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【基本信息】

中文名稱：(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯

英文名稱：(1,3-dioxoisoindolin-2-yl)methyl trifluoromethanesulfonate

分子式：C₁₀H₆F₃NO₅S

分子量：308.99

外觀：白色至微黃色固體

溶解性：易溶于極性有機溶劑，如二甲基亞硫酰胺（DMSO）、N-甲基吡咯烷酮（NMP）等，溶解度較低于水

熔點：約130℃（分解）

分解溫度：＞250℃

儲存條件：在干燥、陰涼的環境下存放，避免陽光直射，溫度建議低于30℃

【應用領域】

光刻膠材料

作為一種光酸生成劑，(1,3-二氧異吲哚 -2-基)甲基三氟甲磺酸酯能夠在光刻膠中通過光照引發強酸的生成，優化光刻膠的性能。

（1）適用于先進的半導體光刻膠配方，特別是ArF（氟化氬）和EUV（極紫外）光刻技術。

（2）在高精度光刻過程中提供優異的分辨率和線條銳度，滿足高端芯片制造需求。

半導體制造

該化合物廣泛應用于半導體制造中的曝光工藝，能有效提高光刻膠的曝光反應和圖案轉移效率。

（1）作為光刻膠的增感劑，改善圖案的清晰度和精度。

（2）提高微結構圖案的對比度和分辨率，確保小尺寸器件的制造。

功能涂層與其他電子材料

除了在光刻膠中的應用外，該化合物也可用于電子封裝和功能涂層材料中，作為催化劑和表面改性劑。

（1）在電子封裝中，提供良好的熱穩定性和化學耐受性。

（2）用于涂層中，增強材料的光學性能和耐腐蝕性，提升設備的使用壽命。