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電子級 間甲基二苯基磺酸鹽,全氟-1-丁烷磺酸

mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate

產品編號 CAS No. MDL No. PubChem ID 分子式 分子量 純度 外觀
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英文名稱 mesityldiphenylsulfonium,perfluoro-1-butanesulfonate
中文名稱電子級 間甲基二苯基磺酸鹽,全氟-1-丁烷磺酸
CAS號0-0-YH84019
產品編號YH84019
分子式C25H21F9O3S2
分子量604.08

電子級全氟-1-丁烷磺酸間甲基二苯基磺酸鹽是一種高純度的磺酸鹽類化合物,專為半導體和電子材料應用設計。該化合物由全氟-1-丁烷磺酸根與間甲基二苯基磺酸陽離子組成,具有出色的化學穩定性和優異的熱性能。作為一種高效的光酸生成劑(PAG),該產品在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中廣泛應用,特別適合用于高分辨率和高靈敏度的光刻膠配方,能顯著提升圖形保真度和顯影效果。

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【物理性質】

1.基本性質

分子式:C25H21F9O3S2

分子量:604.08 g/mol

外觀:白色至淺黃色粉末

純度:≥99.5%

2.溶解性

易溶于極性有機溶劑,如乙腈、丙酮和二甲基亞砜(DMSO)。

不溶于水,但在有機溶劑體系中表現出良好的溶解性和穩定性。

3.熱穩定性

熱分解溫度較高(>250°C),適合用于高溫光刻和苛刻的加工條件。需存放于干燥、避光環境,避免長時間暴露在潮濕空氣中。

【應用領域】

1.光酸生成劑(PAG

作為先進光刻膠中的光酸生成劑,在曝光過程中能迅速生成強酸,從而促進光刻膠的顯影反應。在深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻工藝中,表現出優異的靈敏度和分辨率,適用于下一代芯片制造。

2.光刻膠和抗蝕劑配方

用于高性能光刻膠和抗蝕劑配方中,能夠提升材料的光敏性能和化學穩定性。在微細加工和高分辨率圖形形成中,提供卓越的邊緣精度和抗蝕刻性能。

3.電子材料添加劑

在電子材料領域作為添加劑,改善薄膜材料的熱穩定性和機械強度,適用于高溫和苛刻環境下的應用。廣泛應用于半導體制造、顯示器生產及其他高精度電子器件的開發。

電子級全氟-1-丁烷磺酸間甲基二苯基磺酸鹽以其優越的化學和熱性能,為現代光電子和半導體制造工藝提供了重要支持。


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