三苯基硫鎓-4-(乙烯基)苯磺酸鹽（Triphenylsulfonium 4-(vinyl)benzenesulfonate）是一種高效光酸生成劑，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造及微電子加工領(lǐng)域，特別是高分辨率光刻工藝。該化合物具有結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性，能在紫外光或電子束照射下分解生成強(qiáng)酸，促進(jìn)光刻膠的顯影反應(yīng)，為先進(jìn)集成電路和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）的制造提供支持。

如果需要了解更多產(chǎn)品信息請(qǐng)通過微信或QQ與我們?nèi)〉寐?lián)系，我們的團(tuán)隊(duì)將為您提供一對(duì)一的咨詢服務(wù)。

QQ：3956182849

微信：

【物理性質(zhì)】

1.基本性質(zhì)

分子式：C₂₆H₂₂O₃S₂

分子量：446.591 g/mol

外觀：白色或淡黃色固體粉末

純度：≥99.0%

2.溶解性

易溶于大多數(shù)極性有機(jī)溶劑（如甲醇、乙腈等）。

在水中的溶解性較低，適用于有機(jī)基光刻膠體系。

3.化學(xué)特性

光敏性：在紫外光照射下分解，生成強(qiáng)酸。

穩(wěn)定性：在避光、干燥條件下儲(chǔ)存具有優(yōu)異的穩(wěn)定性，適合長時(shí)間儲(chǔ)存和運(yùn)輸。

4.儲(chǔ)存條件

儲(chǔ)存在干燥、陰涼處，避光保存，建議溫度在5–25°C之間。

【應(yīng)用領(lǐng)域】

1.光刻工藝

用作電子級(jí)光刻膠中的光酸生成劑，能夠顯著提升光刻膠的光敏性能。支持深紫外（DUV）和極紫外（EUV）光刻工藝，可實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)和納米級(jí)圖形加工。

2.微電子加工

在微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）中，用于制造高精度的器件結(jié)構(gòu)，如傳感器、微執(zhí)行器等。用于高密度存儲(chǔ)芯片、處理器等先進(jìn)集成電路制造，滿足高精度圖形轉(zhuǎn)移需求。

3.特殊涂層與薄膜

用于光敏涂層和功能性薄膜的制備，特別是在光學(xué)元件及顯示技術(shù)中?？勺鳛楣忭憫?yīng)材料的關(guān)鍵組分，用于調(diào)節(jié)材料性能。

【總結(jié)】

三苯基硫鎓-4-(乙烯基)苯磺酸鹽以其高效的光酸生成能力和穩(wěn)定的物化性質(zhì)，在半導(dǎo)體光刻膠和微納米加工領(lǐng)域占有重要地位。其在深紫外光刻及高分辨率圖形轉(zhuǎn)移中的應(yīng)用，使其成為先進(jìn)光刻技術(shù)的重要支持材料之一。